佳能纳米压印**装置可制造5nm芯片 耗电量仅十分之一
【CNMO科技消息】近日，CNMO注意到，据日经报道，佳能公司在半导体制造领域取得了重大突破，其纳米压印（NIL）技术成功实现了商业化，并在性能上接近了阿斯麦的极紫外光（EUV）曝光装置。据报道，佳能公司的纳米压印技术具有出色的图案制造能力。通过像盖章一样将纳米级别的图案刻在掩膜上，然后转印到晶圆上，该技术能够绘制出5纳米级半导体工艺所需的最小线宽为14纳米的电路图案。这种能力使得纳米压印装置在制造复杂图案时具有显著优势，因为即使是复杂的图案也可以在单次曝光中完成转印，从而大大简化了制造过程。
与此同时，佳能的纳米压印技术在能源消耗方面表现出色。与EUV曝光装置相比，纳米压印装置的耗电量仅为前者的十分之一。这是因为纳米压印的制造工艺相对简单，不需要像EUV曝光那样使用高能耗的光源和复杂的反射系统。这种低能耗特性使得纳米压印技术在长期运行中具有更高的经济效益和环保优势。
此外，佳能的纳米压印技术还具有较低的成本优势。虽然具体的价格尚未公布，但由于纳米压印装置的结构相对简单，其制造成本很可能低于EUV曝光装置。这使得纳米压印技术在市场推广和普及方面更具竞争力。
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前两天那个新闻不是说我们也能5.5nm了？ [偷笑]比起这个，我更好奇ASML和荷兰zf吵架吵得怎么样了 昰昰暃暃 发表于 2024-3-26 17:14
老美给日本放水日本立刻就能制造出有竞争力的产品了。有意思。
前两天那个新闻不是说我们也能5.5nm了？ ...
日本可是原创型技术发达国家。不光是**机还有OLED屏生产的印刷机小本子很强的。老美要不限制研发小本子肯定要比现在表现的更强 纳米压印的坑比光_刻只多不少，能不能取代**甚至追赶都真的难说。 论坛禁止光_刻机？ 耗电1/10，但是生产速度是1/30，良率是1/50。 纳米压印听说良品率很低，要不然也不会30多年都没落地 赫敏 发表于 2024-3-27 06:59
纳米压印听说良品率很低，要不然也不会30多年都没落地
我觉得还是要用发展的眼光看技术的突破吧。日本因为受广场协议影响，整个半导体产业受到巨大打击，相关企业的投入绝对是不足的，不然也不会搞到原来自己有基础和技术的内存芯片和闪存芯片，现在产量和技术跟不上世界一流水平。半导体生产技术的任何重大突破，都是需要巨额的资金和人才加持，象ASML的浸没式**机的研制和 日本Tokki公司OLED蒸镀机的研制，巨额研制支出差点搞死研制厂家，最后还好得到其他厂商的全力支持才实现（ASML后面的台积电和三星，日本TOKKI后面的三星）。纳米压印技术，技术成熟应该不远了，即使达不到最先进制程，能大幅降低中低制程的成本也是好的，毕竟14nm和28nm制程虽然是成熟技术，但ASML**机的采购成本依然很高。 纳米压印这条路线是不是日本独有的？像其他很多路线看上去大家都有在趟 被屏蔽的是“光 _刻”？[困惑]
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