美光正在试产1γ工艺芯片， 目标2025年量产EUV DRAM
美光已开始采用1γ（1-gamma）工艺试产DRAM芯片，并计划明年进入大批量生产阶段。直到目前为止，美光所有的存储芯片都完全依赖于DUV**设备，反观DRAM领域主要的竞争对手三星和SK海力士，都投资了更为昂贵的EUV**设备。美光通过标准的DUV多重曝光，在1α和1β工艺上开发出具有性能和成本竞争力的DRAM芯片，而切换到EUV技术可以进一步提高制程节点的经济性。
美光总裁兼首席执行官Sanjay Mehrotra在与投资者和金融分析师的电话会议上表示，虽然美光在EUV**设备的使用上稍微落后于三星和SK海力士，但是加入EUV技术的1γ工艺DRAM芯片试生产进展顺利，有望在2025年实现量产。
美光对1γ工艺的DRAM芯片寄予厚望，希望能借助EUV技术构建业界最小的DRAM单元，制造出业内最便宜且更节能的存储产品，这可以让其在存储芯片的竞争中获得优势。目前试产工作正在美光位于日本广岛的工厂中进行，作为试产计划的一部分，首批采用1γ 工艺的存储产品也会在这里制造。至于使用EUV**设备后对美光DRAM芯片的性能有多大影响，还有待观察。
事实上，美光使用ASML的EUV**机已经有一段时间了。美光一直测试这些工具，以EUV替代1α和1β工艺上部分使用DUV的环节，并逐步进行调整，以提升良品率。现在美光已积累了足够的经验，开始准备将EUV**机投入到大规模生产中。
新闻来源：https://www.expreview.com/94525.html 国产 光 刻 机要加油吧，别让美帝甩太远了。
[流泪] 我想用用性价比的电脑
页:
[1]